|
Abstract:
|
Kastumisprosessit ovat keskeisiä monissa käytännön sovelluksissa. Esimerkiksi prosesseissa, joihin liittyy voiteluaineiden käyttäytyminen ja maalien, liimojen ja erilaisten pinnoitteiden tartunta- ja peittämisominaisuudet. Tässä työssä on pyritty löytämään nesteen käyttäytymistä kuvaavia yleisiä lainalaisuuksia tutkimalla numeerisesti tietokoneella eri pisaramallien ominaisuuksia. Saatuja tuloksia verrataan myös mahdollisuuksien mukaan teoreettisiin tuloksiin, jolloin teorioiden perustana olevien mallien sopivuutta ja niiden rajoituksia voidaan arvioida. Simuloinneissa käytettävät pisaramallit ovat luonteeltaan varsin erilaisia. Ensimmäinen malleista perustuu molekyylidynamiikkaan, joten siinä pyritään laskemaan yksittäisten nesteatomien liikeratoja. Malli on kuitenkin laskennallisesti erittäin raskas, joten sitä ei voida käyttää apuna makroskooppisten pisaroiden tutkimuksessa. Toinen malleista pyrkii kuvaamaan nesteen ja kaasun välisen rajapinnan käyttäytymistä termodynaamisten suureiden avulla. Tällä mallilla pyritään osittain paikkaamaan ensimmäisen mallin jättämiä epäkohtia. Tätä diplomityötä voidaan pitää jatkeena aikaisemmille elektroniikan laitoksella tehdyille rajapintojen tutkimuksille. /Kir11 |