|
Abstract:
|
Työssä tarkastellaan lyhyesti röntgenspektriä ja röntgenmikroanalysaattoria. Olennaisin osa tarkastelusta käsittelee kuitenkin näytetilavuuden muodostumista röntgenmikroanalysoinnissa. Näytetilavuuden muodostuminen johtuu ensisijaisesti näytteen ja sitä pommittavan elektronivuon välisistä vuorovaikutuksista. Vuorovaikutuksia tarkastellaan aluksi yhden elektronin kannalta, josta käsittely laajennetaan elektronivuota totaalisesti käsitteleväksi. Tällöin selittyvät monet näytetilavuudesta johtuvat ilmiöt, kuten ohuiden pinnoitteiden karakteristisen säteilyn intensiteetti ja lateraalinen erotuskyky. Kokeellisessa osassa tarkastellaan aluksi ohuiden pinnoitteiden intensiteettiä pinnoitepaksuuden funktiona. Pinnoitteet ovat TiC, Ti ja Ni. Alustana on ensimmäisessä W, muissa Cu. Tulokset ovat sopusoinnussa teoreettisen tarkastelun kanssa. Tuloksia voidaan soveltaa ohuiden pinnoitteiden paksuuksien mittauksiin. Kokeellisen työn toisessa osassa tutkittiin energiadispersiivisen spektrometrin käyttöä viiva-analyysissä, erityisesti lateraalisen erotuskyvyn osalta. Menetelmällä on tulosten perusteella saavutettavissa erinomainen lateraalinen erotuskyky, joskin tällöin on tingittävä havaittavuudesta. /Kir09 |