|
URN:
|
http://URN.fi/URN:NBN:fi:tty-200910306996
|
|
Title:
|
EMC-mittaushallin kulkuaukon sulkulaitteiston tuotekehitystyö |
|
Author:
|
Viertola, Mikko |
|
Publication type:
|
Diplomityö |
|
Issue date:
|
1993 |
|
University:
|
Tampereen teknillinen korkeakoulu |
|
Faculty:
|
Konetekniikan osasto |
|
Department:
|
Koneensuunnittelun laitos |
|
Abstract:
|
Kehitettävän järjestelmän tuli avattuna sallia esteetön kulku mittaustilaan ja suljettuna taata hyvä sähkömagneettinen tiiveys. Valmistajan aikaisemmat ovimallit on suunniteltu toimimaan ilman absorberikeilojen aiheuttamaa lisäkuormitusta. Sovellettaessa ovia uusiin käyttötarkoituksiin on riittävän tiiveyden aikaansaaminen aiheuttanut kalliita lisärakenteita. Lähtötiedot työhön saatiin asiakashaastattelujen avulla. Valmistajan vaatimuksia kartoitettiin ennen työn alkua sekä työn aikana. Tuotekehitystyö tehtiin soveltamalla siihen Pahlin & Beitzin oppien mukaista tuotekehitysprosessin kulkua. Kyseisen menetelmän avulla käytiin lukuisia toimintavaihtoehtoja läpi. Toimintavaihtoehdoista parhaat valittiin teknis-taloudellisten kriteerien nojalla jatkokehittelyyn. Jatkokehittelyn pääpaino oli toimintojen moduloinnissa ja moduulien sisäisen mitoituksen parametrisoinnissa. Pyrkimyksenä oli löytää suunnitteluprosessia nopeuttava malli. Parametrisoinnin lopputuloksena saatiin järjestelmälle mitoitushierarkia. Mitoitushierarkian avulla pystytään järjestelmän osat ilmoittamaan oven valoaukon koon ja absorberien pituuden funktiona. /Kir11 |
|
Copyright:
|
This publication is copyrighted. You may download, display and print it for Your own personal use. Commercial use is prohibited. |